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    從薄膜原理、設計到工藝(9.27~9.29 深圳)
    時間:2024-07-29 21:35來源:黌論教育作者: 黌論點擊:打印
    課程編號CS240015                                                                                            
     
    時間地點
    主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司(微信公眾號:infotek)
    蘇州黌論教育咨詢有限公司(微信公眾號:honglun-seminary)
    授課時間:2024年9月27(五)-29(日)共3天  AM 9:00-PM 16:00
    授課地點:深圳市光明區鳳凰街道光明大道與科裕路交匯處尚智科園1棟1B座1503室
    課程講師:訊技光電高級工程師&資深顧問
    課程費用:4800RMB(課程包含課程材料費、開票稅金、午餐)
     
    課程簡介
    當收到需求者的光學規格及非光學規格如環境測試要求時,既可以著手選用所需的基板,鍍膜材料及膜數與厚度設計。設計開始可以從標準膜系著手,例如高反射鏡不管波寬大小,開始我們一定是以四分之一波膜堆為設計基礎,倘若是截止濾光片,則應以對稱膜堆為設計基礎。當初始設計無法滿足要求時,我們需要考慮商業軟件或自行設計電腦軟件來參與合成或優化,設計好之后,即刻進行制造成功率分析,亦看膜層厚度的誤差值的容許度,若是鍍膜機的精密度做不到,則要修改設計,重新分析直達合格為止。
    透明塑料基板質輕價廉,而且容易成型為非球面透鏡,被廣泛采用在光學系統中,如眼睛鏡片、相機透鏡、手機鏡頭、及顯示器面板,如OLED,近眼顯示應用。但塑性及軟性基板的低密度致使其具有吸水性,從而使薄膜與基板的附著性不佳。再者這些塑料基板比較柔軟、容易刮傷、需要鍍上硬膜保護。因此塑料透鏡的鍍膜除了抗反射,還要兼具免受刮傷的保護。本課程會從這些方面重點闡述塑料基底的鍍制工藝及其物理特性。
    該課程一天會全面講解光學薄膜分析軟件Essential Macleod的操作方法,第二天和第三天會講解薄膜設計和工藝上的應用。
    課程大綱
    1. Essential Macleod軟件介紹
    1.1 介紹軟件
    1.2 運行程序
    1.3 創建一個簡單的設計
    1.4 通過剪貼板和文件導入導出數據
    1.5 約定-程序中使用的各種術語的定義
     
    2. 光學薄膜理論基礎
    2.1 介質和波
    2.2 垂直入射時的界面和薄膜特性計算
    2.3 后表面對光學薄膜特性的影響
     
    3. 理論技術
    3.1 參考波長與g
    3.2 四分之一規則
    3.3 導納與導納圖
     
    4. 光學薄膜設計
    4.1 光學薄膜設計的進展
    4.2 光學薄膜設計中的一些實際問題
    4.3 光學薄膜設計技巧
    4.4 特殊光學薄膜的設計方法
    4.5 優化目標設置
    4.6 優化方法(單一優化,合成優化,模擬退火法,共軛梯度法,準牛頓法,針形優化,差分演化法)
     
    5. 常規光學薄膜系統設計與分析
    5.1 減反射薄膜
    5.2 分光膜
    5.3 高反射膜
    5.4 干涉截止濾光片
    5.5 窄帶濾光片
    5.6 負濾光片
    5.7 非均勻膜與Rugate濾光片
    5.8 Vstack薄膜設計示例
    5.9 Stack應用范例說明
    6. VR、AR及HUD用光學薄膜
    6.1 背景介紹
    6.2 產品特性
    6.3 典型VR系統光學薄膜設計分析
    6.4 典型AR系統光學薄膜設計分析
    6.5 典型HUD系統光學薄膜設計分析

    7. 防霧薄膜
    7.1 自清潔效應
    7.2 超親水薄膜
    7.3 超疏水薄膜
    7.4 防霧薄膜的制備
    7.5 防霧薄膜的性能測試
     
    8. 材料管理
    8.1 光學薄膜材料性能及應用評述
    8.2 金屬與介質薄膜
    8.3 材料模型
    8.4 介質薄膜光學常數的提取
    8.5 金屬薄膜光學常數的提取
    8.6 基板光學常數的提取
    8.7 光學常數導出遇到的問題及解決思路
     
    9. 薄膜制備技術
    9.1 常見薄膜制備技術
    9.2 光學薄膜制備流程
    9.3 淀積技術
    9.4 工藝因素
    10. 誤差、容差與光學薄膜監控技術
    10.1 光學薄膜監控技術
    10.2 誤差分析與監控決策
    10.3 Runsheet 與 Simulator應用技巧
    10.4 膜系靈敏度分析
    10.5 膜系容差分析
    10.6 誤差分析工具
    11. 反演工程
    11.1 鍍膜過程中兩種主要的誤差(系統誤差和隨機誤差)
    11.2 用反演工程來控制對設計的搜索
     
    12. 應力、張力、溫度和均勻性工具
    12.1 光學性質的熱致偏移
    12.2 應力工具
    12.3 均勻性誤差(圓錐工具、波前問題)
     
    13. 光學薄膜特性測量
    13.1 薄膜光學常數的測量
    13.2 薄膜堆積密度的測量
    13.3 薄膜微觀結構分析
    13.4 薄膜成分分析
    13.5 薄膜硬度、附著性及耐摩擦性的測量
    13.6 薄膜表面粗糙度的測量
     
    14. 項目管理與應用實例
    14.1 項目管理
    14.2 光學薄膜項目開發過程
    14.3 客戶需求分析
    14.4 文檔管理與報表生成
     
    15. 其他控制透反射方法
    15.1 蛾眼抗反射結構
    15.2 線柵偏振片
     
    16. Q&A
     
      報名方式
    1. 本次課程針對所有對薄膜有興趣的人員,不需要任何光學軟件基礎,如確認報名,請填寫報名表,并傳真至021-64860709或郵件 course@infotek.com.cn; course@infocrops.com 至訊技/訊稷課程小組。
    2. 在客服與您確認信息無誤后,客戶需將課程費用匯款至訊技/訊稷指定賬戶,并在匯款憑證上注明課程名稱、日期與報名人員后,以郵件(course@infotek.com.cn;course@infocrops.com)的形式發至客服。
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    4. 課程采用小班授課模式,并通過理論聯系實際的方式為學員講解,本次課程報名繳費截止日期為2024年09月20日,如有興趣建議您盡早報名。
    5. 學員需自備有管理員權限的電腦,訊稷提供上課用的完整版軟件工具。
    6. 報名費用包含(課程材料費、開票稅金及午餐),其他費用學員自理。
    7. 培訓成績合格將授予訊技/黌論頒發的結業證書。
    8. 訊技,訊稷以及蘇州黌論對課程有異動權及最終解釋權。
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