時間地點(diǎn)：

主辦單位：訊技光電科技（上海）有限公司；上海訊稷光電科技有限公司；常熟黌論教育咨詢有限公司
授課時間：2O21年7月1日（四）-2日（五），共2天
授課地點(diǎn)：黌論上海培訓(xùn)室（具體地址開課前一周通知，敬請關(guān)注黌論教育平臺）
課程費(fèi)用：3600RMB （包含課程材料費(fèi)、開票稅金、午餐費(fèi)用）

1 光學(xué)薄膜基礎(chǔ)
1.1 一般規(guī)則
1.2 正交入射規(guī)則
1.3 斜入射規(guī)則
1.4 相干性
2 Essential Macleod軟件介紹
2.1 軟件簡介
2.2 界面介紹
2.3 文件位置
2.4 材料庫
2.5 常用單位
2.6 插值和外推法
2.7 導(dǎo)入和導(dǎo)出
2.8 繪圖
3 優(yōu)化與合成
3.1 優(yōu)化介紹
3.2 目標(biāo)
3.3 評價函數(shù)
3.4 優(yōu)化方法
3.4.1 單純形
3.4.2 最佳參數(shù)
3.4.3 模擬退火
3.4.4 共軛梯度
3.4.5 擬牛頓法
3.4.6 針式合成
3.5 優(yōu)化方法的選擇
4 鍍膜實例
4.1 單層抗反射膜
4.2 1/4-1/4抗反射薄膜
4.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜
4.4 W-膜層
4.5 偏振分束器
4.6 其他多層抗反射膜
5 太陽能電池抗反射膜工藝
5.1 真空及真空系統(tǒng)
5.2 薄膜的制備工藝
5.3 薄膜的制備技術(shù)
5.4 光學(xué)薄膜的性能
5.5 膜系的優(yōu)化
6 光學(xué)薄膜的顏色
6.1 色彩
6.2 色相和純度
6.3 薄膜的顏色和最佳顏色刺激
6.4 Essential Macleod中的顏色計算
7 公差與誤差
7.1 蒙特卡洛模型
7.2 誤差工具
7.3 靈敏度工具
8 光學(xué)常數(shù)提取
8.1 介紹
8.2 電介質(zhì)薄膜的N和K的提取
8.3 金屬的參數(shù)提取