課程編號:CS170033 |
時間地點 |
主辦單位:訊技光電科技(上海)有限公司 上海訊稷光電科技有限公司;常熟黌論教育咨詢有限公司 |
課程簡介 |
當收到需求者的光學規(guī)格及非光學規(guī)格如環(huán)境測試要求時,既可以著手選用所需的基板,鍍膜材料及膜層數(shù)量與厚度設計。設計開始可以從標準膜系著手,例如高反射鏡不管波寬大小,開始我們一定是以四分之一膜堆為設計基礎,倘若是截止濾光片,則應以對稱膜堆為設計基礎。當初始設計無法滿足要求時,我們需要考慮商業(yè)軟件或自行設計電腦軟件來參與合成或優(yōu)化,設計好之后,即刻進行制造成功率分析,亦看膜層厚度的誤差值的容許度,若是鍍膜機的精密度做不到,則要修改設計,重新分析直達合格為止。 |
課程大綱 |
a. 設計與最后獲得的結果之間的差異分析
b. 優(yōu)化方法的培訓和討論 |
報名方式: |
1. 本次課程人數(shù)限定10人,報名聯(lián)絡方式如下: |